中国地区ナノテクノロジー・ネットワーク　平成23年度電子線描画リソグラフィスクール開催

　平成23年度電子線描画リソグラフィスクールが、東京工業大学 電子ビームによるナノ構造造形・観察支援と山口大学 産学公連携・イノベーション推進機構　ナノテクノロジー・ネットワークの主催によって、平成23年6月7日から10日にかけて、山口大学産学公連携・イノベーション推進機構の先端研究棟において開催されました。
　初日の7日には、佐藤 誠 氏（㈱トクヤマ）による「電子線用高解像度ネガ型レジストTEBN-1の開発と特性」、生津 英夫 氏（NTTアドバンステクノロジー）による「高精度電子ビームナノリソグラフィとその応用」、山本 治朗 氏（日立中央研究所）による「電子線リソグラフィの高解像・高速化」、宮本 恭幸 氏（東京工業大学）による「デバイス・プロセスを見込んだ電子ビーム露光」、といった４つの講演が行われ、学内外より37名（社会人15名、学生22名）の方が熱心に聴講されました。
　続く8日（水）～10日（金）には、リソグラフィによる超微細加工の実習として、三層レジストを用いた高速トランジスタ用Tゲート作製（右の写真）が山口 武 氏（東京工業大学）により行われ、10名（社会人5名、学生5名）の方が参加されて最先端の技術を習得されました。