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中国地区ナノテクノロジー・ネットワーク　H23年度電子線描画リソグラフィスクール

（2011年4月25日掲載）
日時 2011年 6月 7日 13時00分～
会場 山口大学常盤キャンパス　先端研究棟
内容

日時：2011年6月7日（火）～10日（金）

本スクールでは、電子線描画リソグラフィ技術およびフォトリソグラフィに関する講義4コマを行います。
また、希望者に対して、電子線描画リソグラフィに関する実習を実施します。
・ 実習は関連する講義を受けることが必須となっています。
・ 講義のみの参加も可能です。

a) 講義：6月7日（火）13:00～　/ 定員：40名
　◆「電子線用高解像度ネガ型レジストTEBN-1の開発と特性」
　◆「高精度電子ビームナノリソグラフィとその応用」
　◆「電子線リソグラフィの高解像・高速化」
　◆「デバイス・プロセスを見込んだ電子ビーム露光」

b) 実習：6月8日(水)～10日(金) /定員：各3名
　　◆「電子線描画基本コース」（経験不問）
　　◆「電子線描画応用コース」（経験者対象）

★詳細は、下記「資料等」をご覧下さい。
主催 山口大学 産学公連携・イノベーション推進機構、東京工業大学 電子ビームによるナノ構造造形・観察支援
参加費 無料
申込み・問い合わせ 申込期日：2011年5月20日(正午)まで

●氏名、所属機関名および部署名、連絡先（電話番号およびE-mailアドレス）、実習参加希望の有無（基本コースor応用コース）を、下記までE-mail、またはFAXでお申し込み下さい。
●同じグループから複数で応募される場合は、グループ毎にまとめてお申し込みいただきますよう、ご協力をお願いいたします。
●なお、参加希望者多数の場合、調整させて頂く場合があります。
●スクールの内容等に関するお問い合わせは、下記までご連絡下さい。

【お問い合わせ先】
山口大学 産学公連携・イノベーション推進機構
Tel； 0836-85-9976 Fax； 0836-85-9962
E-mail； nanotech@yamaguchi-u.ac.jp
参照ページ

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資料等 2011042564