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文部科学省　先端研究施設共用イノベーション創出事業　「シリコンナノ加工と高品質真空利用技術に関する支援」　広島大学・山口大学　合同シンポジウム

（2010年7月14日掲載）
日時 2010年 8月27日 13時00分～
会場 広島大学　霞キャンパス　広仁会館　≪広島県広島市南区霞1-2-3　TEL（082）257-5555≫
内容

講演；
13：05～13：55
江刺正喜（東北大学　大学院工学研究科ナノメカニクス専攻　教授）
「MEMSの概要および技術動向」

13：55～14：40
David A.Horsley（Professor,Berkeley Sensor&Actuator Center University of California,Davis）
「Current Trends in Manufacturing and Metrology of Microfabricated Sensors and Actuators」

14：55～15：40
榑松保美（キヤノンアネルバ（株）　事業統括部門事業戦略室　エキスパート）
「磁性薄膜形成プロセスと真空装置」

皆様のご参加をお待ち致しております。
※その他詳細は下記「資料等」をご覧ください。
主催 広島大学ナノデバイス・バイオ融合科学研究所、山口大学産学公連携・イノベーション推進機構
参加費 参加登録無料。（但し、懇親会ご出席の場合には、会費1,500円と なります。）
申込み・問い合わせ お申し込みは、下記「参照ページ」からお願いします。

お問い合わせは、下記へお願いします。
〔山口大学事務局〕
Eメール：nanotech@yamaguchi-u.ac.jp
参照ページ

広島大学ナノテクノロジーネットワークプロジェクト
資料等 2010071454